『 Win 』光学设计软件 Zemax OpticStudio 18.4.1 完美激活

OpticStudio 是光学设计行业内领先的设计软件,其结合了各种复杂的物理以及视觉的互动,使您能够分析、模拟并优化光学系统,以符合公差规范。借由这套软件建立个各种光学、照明以及激光系統,使用者能省下大量成本与时间。以可制造性设计的核心理念帮助助使用者加速产品上市时间,并减少开发成本。

Zemax 把快速、精确的设计工具通过 OpticStudio™ 交到了光学工程师的手中。每个工具都扮演了工程设计过程中关键步骤的主要角色。分析、优化和公差工具组包含了一系列基于物理科学的算法,从而在特殊条件下分析、模拟和优化光学系统。
  • 分析工具——通过单一无缝对接的软件平台将您的想法变为可能,包含序列和非序列模式下的分析和建模仿真工具。
  • 优化工具——基于参数选择自动优化您的光学/照明系统,使得符合产品的设计要求。。
  • 公差工具——将光学部品的加工及装配应用到软件设计及仿真中,全方面的评估设计的可加工性及良品率。

为提高OpticStudio软件支持模块的可用性,其中包括了库存镜头和材料目录,用户帮助指南,知识库材料文章等。同时为确保OpticStudio用户的高效生产率,以上模块无需增加额外费用。

OpticStudio 18.4.1,包含多个新增功能以及功能增强,来帮助你更加精准的仿真光学系统。

全新全视场像差分析

通过对您的系统进行全视场分析,观测不同类型的像差是如何降低您系统的光束或成像质量,极大地增进了您在自由曲面领域的设计体验。

转换为NSC组工具的更新升级

使具有偏心孔径的离轴系统实现自动转换。

全新组合透镜物体

在非序列模式下模拟复杂透镜,用于杂散光分析以及光机设计。

全新原生布尔物体

在复杂物体内进行更快速度、更高精度以及更可靠的光线追迹。

OpticStudio 为快速验证光学设计想法提供了灵活、直观并且强大的建模环境。我们近期的调查结果显示,对于用户而言,OpticStudio 的用户界面以及整体可用性依然至关重要。本次发布的新版本,针对可用性有以下更新:

全新搜索功能

使用该功能,帮助你在编辑器中快速找到需要的表面、物体或操作数。

全新书签功能

使用该功能,充分完善对编辑器内容的组织安排。

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